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產(chǎn)品中心三維光學輪廓儀SensofarS neoxSensofar白光干涉儀：高分辨表面形貌測量
產(chǎn)品簡介
Sensofar白光干涉儀：高分辨表面形貌測量Sensofar白光干涉儀采用非接觸式光學測量技術，適用于微納米級表面形貌分析，可滿足半導體、精密制造、材料科學等領域的高精度檢測需求。
產(chǎn)品分類
Sensofar白光干涉儀：高分辨表面形貌測量
Sensofar白光干涉儀采用非接觸式光學測量技術，適用于微納米級表面形貌分析，可滿足半導體、精密制造、材料科學等領域的高精度檢測需求。
•測量范圍：垂直分辨率達0.1nm，橫向分辨率1μm
•多模式檢測：支持白光干涉（WLI）、共聚焦（CLI）、聚焦變化（FVI）
•快速掃描：高速采集數(shù)據(jù)，減少測量時間
•大視野兼容：適配不同放大倍率物鏡，支持小區(qū)域至大面積掃描
•光學系統(tǒng)：高穩(wěn)定性干涉鏡頭，減少環(huán)境干擾
•樣品臺：精密電動載物臺，定位精度高
•軟件分析：內(nèi)置3D形貌重建、粗糙度計算、臺階高度分析等功能
型號 | S neox | S mart |
|---|---|---|
垂直分辨率 | 0.1nm | 1nm |
橫向分辨率 | 1μm | 2μm |
最大視場 | 10mm×10mm | 5mm×5mm |
掃描速度 | 高速模式可選 | 標準模式 |
兼容物鏡 | 2.5X~150X | 5X~100X |
•半導體晶圓表面缺陷檢測
•MEMS器件三維形貌分析
•精密光學元件面型測量
•材料表面粗糙度與臺階高度表征
1.樣品準備：確保表面清潔，避免強反射干擾測量。
2.模式選擇：根據(jù)樣品特性選用WLI、CLI或FVI模式。
3.參數(shù)設置：調(diào)整掃描范圍、分辨率及物鏡倍率。
4.數(shù)據(jù)分析：通過軟件生成3D形貌圖并導出測量報告。
Sensofar白光干涉儀以靈活的測量模式和穩(wěn)定的性能，助力科研與工業(yè)檢測。如需技術演示或定制方案，歡迎聯(lián)系支持。Sensofar白光干涉儀：高分辨表面形貌測量
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