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奧林巴斯 OLS5100:材料科研共聚焦利器

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

奧林巴斯 OLS5100:材料科研共聚焦利器
在材料科學(xué)、納米技術(shù)等科研領(lǐng)域,對(duì)微觀形貌的三維高精度分析是推動(dòng)研究進(jìn)展的重要支撐。奧林巴斯激光共聚焦顯微鏡 OLS5100,憑借出色的三維成像能力與豐富的分析功能,成為科研人員開(kāi)展微觀研究的得力工具。

產(chǎn)品型號(hào):
更新時(shí)間:2025-08-26
廠商性質(zhì):代理商
訪問(wèn)量:51
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奧林巴斯 OLS5100:材料科研共聚焦利器

在材料科學(xué)、納米技術(shù)等科研領(lǐng)域,對(duì)微觀形貌的三維高精度分析是推動(dòng)研究進(jìn)展的重要支撐。奧林巴斯激光共聚焦顯微鏡 OLS5100,憑借出色的三維成像能力與豐富的分析功能,成為科研人員開(kāi)展微觀研究的得力工具。
產(chǎn)品細(xì)節(jié)
OLS5100 采用落地式穩(wěn)定結(jié)構(gòu),機(jī)身尺寸約 800mm×600mm×1200mm,重量 120kg,底部設(shè)有防震腳墊,能有效減少外界振動(dòng)對(duì)成像的影響。操作界面為 15 英寸觸控屏,搭配鼠標(biāo)、鍵盤(pán)接口,支持多用戶賬戶管理,可保存不同研究人員的操作參數(shù)與分析模板。樣品臺(tái)為電動(dòng)平移結(jié)構(gòu),行程 150mm×150mm,承重 5kg,支持 X/Y/Z 軸自動(dòng)對(duì)焦與掃描,定位精度達(dá) 0.1μm,可實(shí)現(xiàn)樣品的全自動(dòng)三維掃描。設(shè)備集成激光共聚焦模塊與光學(xué)成像模塊,可切換 2D 成像與 3D 掃描模式;側(cè)面預(yù)留拉曼光譜儀、原子力顯微鏡等擴(kuò)展接口,滿足多技術(shù)聯(lián)用需求。此外,配備大型樣品室,可容納高度 100mm 的樣品,適合觀察塊狀材料、大型器件。
產(chǎn)品性能
OLS5100 采用 405nm 半導(dǎo)體激光光源,縱向分辨率達(dá) 10nm,橫向分辨率達(dá) 100nm,能清晰捕捉納米級(jí)表面起伏(如薄膜的島狀結(jié)構(gòu)、金屬表面的納米劃痕)。設(shè)備支持多種掃描模式:快速掃描(幀率 10 幀 / 秒)適合初步觀察,精細(xì)掃描(分辨率 4096×4096 像素)適合高分辨率三維重構(gòu)。三維分析功能豐富,可計(jì)算表面粗糙度(Ra、Rz)、體積、臺(tái)階高度、孔隙率等參數(shù),數(shù)據(jù)可直接導(dǎo)出至 Origin、Matlab 等軟件進(jìn)行進(jìn)一步分析。測(cè)量過(guò)程中數(shù)據(jù)重復(fù)性較好,相同條件下多次掃描的三維形貌偏差小于 5%,能為科研提供可靠數(shù)據(jù)支持。
用材講究
核心光學(xué)部件選用高透光率石英玻璃,配合多層鍍膜技術(shù),減少激光能量損失與雜散光干擾,確保成像質(zhì)量。樣品臺(tái)臺(tái)面采用耐磨陶瓷材質(zhì),表面平整度誤差小于 2μm,既抗腐蝕又耐高溫(可配合加熱樣品臺(tái)使用,最高溫度 500℃)。內(nèi)部機(jī)械傳動(dòng)部件采用精密滾珠絲杠與伺服電機(jī),保障長(zhǎng)期使用后的運(yùn)動(dòng)精度,減少部件磨損帶來(lái)的掃描偏差。設(shè)備外殼采用冷軋鋼板,表面經(jīng)過(guò)防靜電噴涂處理,能抵抗實(shí)驗(yàn)室常見(jiàn)化學(xué)試劑的腐蝕,同時(shí)減少靜電對(duì)電子元件的影響。
參數(shù)詳情
參數(shù)項(xiàng)
具體數(shù)值
激光波長(zhǎng)
405nm(半導(dǎo)體激光)
縱向分辨率
10nm
橫向分辨率
100nm
掃描范圍
X/Y 軸最大 150mm×150mm,Z 軸最大 10mm
樣品臺(tái)承重
5kg
掃描模式
2D 成像、3D 掃描、線掃描
圖像分辨率
最高 4096×4096 像素
分析功能
粗糙度、體積、臺(tái)階高度計(jì)算等
工作溫度
15-25℃
相對(duì)濕度
30%-60%(無(wú)冷凝)
廣泛用途
在納米材料研發(fā)中,觀察納米顆粒的分散狀態(tài)、納米管的排列結(jié)構(gòu);在薄膜科學(xué)研究中,測(cè)量薄膜的厚度均勻性、表面粗糙度,分析沉積工藝對(duì)薄膜性能的影響;在生物材料研究中,觀察細(xì)胞在支架表面的黏附形態(tài)、生物涂層的三維結(jié)構(gòu);在金屬材料研究中,分析金屬疲勞后的納米級(jí)裂紋擴(kuò)展、腐蝕產(chǎn)物的微觀形貌。
使用說(shuō)明
使用前,將設(shè)備放置在恒溫恒濕的科研實(shí)驗(yàn)室中(溫度波動(dòng)<±1℃/ 小時(shí)),安裝在光學(xué)防震平臺(tái)上,遠(yuǎn)離強(qiáng)磁場(chǎng)(如核磁共振儀)與強(qiáng)電場(chǎng)。打開(kāi)設(shè)備電源,預(yù)熱 30 分鐘,同時(shí)啟動(dòng)激光校準(zhǔn)程序,確保激光光路穩(wěn)定。樣品制備需符合共聚焦測(cè)量要求:導(dǎo)電性樣品需清潔表面氧化層;絕緣樣品(如聚合物、陶瓷)無(wú)需特殊處理,但需確保表面干燥;納米級(jí)樣品需固定在專用樣品座上,避免掃描時(shí)移動(dòng)。將樣品放置在電動(dòng)樣品臺(tái)上,關(guān)閉樣品室門(mén),通過(guò)觸控屏設(shè)置掃描參數(shù)(如掃描范圍、分辨率、掃描速度),選擇 “3D 掃描" 模式。啟動(dòng)掃描后,系統(tǒng)自動(dòng)完成對(duì)焦與數(shù)據(jù)采集,實(shí)時(shí)顯示三維形貌重構(gòu)過(guò)程。掃描完成后,利用配套軟件進(jìn)行數(shù)據(jù)分析(如計(jì)算表面粗糙度、提取臺(tái)階高度),并保存原始數(shù)據(jù)與分析報(bào)告。實(shí)驗(yàn)結(jié)束后,關(guān)閉激光光源,待設(shè)備冷卻后關(guān)閉電源,清潔樣品臺(tái)與樣品室。每周清潔光學(xué)鏡頭與激光出射口,每 3 個(gè)月請(qǐng)專業(yè)人員校準(zhǔn)激光光路與掃描精度。


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