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三維光學(xué)輪廓儀
Sensofar
S wideSensofar 3D輪廓儀科研與工業(yè)“全能選手”
Sensofar 3D輪廓儀科研與工業(yè)“全能選手"從高校實(shí)驗(yàn)室到汽車生產(chǎn)線,從半導(dǎo)體晶圓到航空航天構(gòu)件,表面形貌分析的需求正從微觀尺度向宏觀領(lǐng)域延伸。Sensofar S wide大視野3D光學(xué)輪廓儀憑借其“大視野+高精度"的雙重特性,成為跨領(lǐng)域表面測(cè)量的理想工具。
從高校實(shí)驗(yàn)室到汽車生產(chǎn)線,從半導(dǎo)體晶圓到航空航天構(gòu)件,表面形貌分析的需求正從微觀尺度向宏觀領(lǐng)域延伸。Sensofar S wide大視野3D光學(xué)輪廓儀憑借其“大視野+高精度"的雙重特性,成為跨領(lǐng)域表面測(cè)量的理想工具。
S wide的機(jī)身采用落地式穩(wěn)定結(jié)構(gòu),尺寸為1200mm×800mm×900mm,底部配備重型承重底座,可穩(wěn)定承載50kg重物。樣品臺(tái)為電動(dòng)平移結(jié)構(gòu),X/Y軸行程300mm×300mm(科研版)或500mm×500mm(工業(yè)版),承重范圍10kg-30kg,支持晶圓、復(fù)合材料板材、顯示面板等多樣化樣品。
光學(xué)系統(tǒng)采用雙側(cè)遠(yuǎn)心鏡頭設(shè)計(jì),場(chǎng)失真率低于0.1%,確保大視場(chǎng)范圍內(nèi)測(cè)量數(shù)據(jù)的一致性。針對(duì)不同材質(zhì)樣品,設(shè)備配備可調(diào)節(jié)環(huán)形光源,支持0°-45°角度調(diào)節(jié),優(yōu)化金屬、陶瓷、聚合物等材料的成像對(duì)比度。此外,機(jī)身側(cè)面預(yù)留拉曼光譜儀、紅外成像模塊接口,可擴(kuò)展多技術(shù)聯(lián)用功能。
在共聚焦模式下,S wide的橫向分辨率達(dá)0.3μm,縱向分辨率5nm,即使在大視場(chǎng)掃描中,數(shù)據(jù)一致性偏差仍小于4%。以300mm×300mm晶圓測(cè)量為例,傳統(tǒng)設(shè)備需分9次掃描并手動(dòng)拼接,耗時(shí)1.5小時(shí);S wide通過(guò)“快速拼接算法"僅需1小時(shí)即可完成精細(xì)掃描(分辨率500nm),兼顧效率與精度。
白光干涉模式則專注于納米級(jí)形貌測(cè)量,其0.1nm的縱向分辨率可精準(zhǔn)捕捉液晶顯示屏的面型誤差(全局平面度誤差<5μm)或金屬構(gòu)件的焊接接頭高度差。設(shè)備支持“分區(qū)測(cè)量"功能,操作人員可將樣品劃分為重點(diǎn)檢測(cè)區(qū)域(如汽車門把手安裝區(qū))與常規(guī)區(qū)域,分別采用高倍率物鏡與大視場(chǎng)物鏡進(jìn)行差異化測(cè)量。
S wide的關(guān)鍵部件均選用工業(yè)級(jí)耐用材料:光學(xué)鏡頭采用鈦合金鏡筒,重量輕且剛性強(qiáng),長(zhǎng)期使用后不易形變;樣品臺(tái)導(dǎo)軌驅(qū)動(dòng)電機(jī)選用伺服電機(jī),配合高精度光柵尺(分辨率0.01μm),移動(dòng)定位精度達(dá)±0.05μm;內(nèi)部散熱系統(tǒng)采用分區(qū)散熱設(shè)計(jì),連續(xù)工作2小時(shí)后機(jī)身溫度波動(dòng)小于5℃,保障光學(xué)元件穩(wěn)定性。
參數(shù)類別 | 科研版參數(shù) | 工業(yè)版參數(shù) |
---|---|---|
測(cè)量范圍 | X/Y軸300mm×300mm,Z軸20mm | X/Y軸500mm×500mm,Z軸20mm |
樣品臺(tái)承重 | 10kg | 30kg |
掃描速度 | 0.5-10mm/s(連續(xù)可調(diào)) | 5-20mm/s(高速模式) |
防護(hù)等級(jí) | IP43(實(shí)驗(yàn)室環(huán)境) | IP54(工業(yè)車間環(huán)境) |
接口配置 | 雙USB3.0+千兆以太網(wǎng) | 工業(yè)級(jí)操作手柄+MES系統(tǒng)對(duì)接接口 |
科研版?zhèn)戎赜诙喙δ苄耘c數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì),配套軟件支持粗糙度分布、缺陷密度等參數(shù)的自動(dòng)計(jì)算;工業(yè)版則強(qiáng)化了批量檢測(cè)能力,每小時(shí)可完成5-8塊光伏玻璃的全面檢測(cè),數(shù)據(jù)重復(fù)性偏差小于4%。
在半導(dǎo)體制造中,S wide用于分析晶圓表面的顆粒污染與薄膜厚度均勻性;在顯示面板行業(yè),其大視場(chǎng)特性可快速檢測(cè)液晶屏的涂層質(zhì)量與像素排列精度。操作流程如下:
樣品預(yù)處理:清潔樣品表面,去除油污與灰塵;
模式選擇:粗糙樣品選共聚焦模式,光滑樣品選白光干涉模式;
區(qū)域定位:通過(guò)低倍物鏡框選測(cè)量區(qū)域,軟件自動(dòng)規(guī)劃掃描路徑;
數(shù)據(jù)導(dǎo)出:生成包含3D形貌圖、截面曲線與粗糙度參數(shù)的檢測(cè)報(bào)告。
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